紫外曝光光源有適當的波長。波長越短，可曝光的特征尺寸就越小；波長越短，就表示光刻的刀鋒越鋒利,刻蝕對于精度控制要求越高，因為衍射現象會更嚴重。曝光能量必須均勻地分布在曝光區。一般采用光的均勻度或者叫不均勻度光的平行度等概念來衡量光是否均勻分布。
 

　　紫外曝光光源的應用領域：
 

　　1、電機和零部件安裝(線、線圈固定不動、線圈端固定不動、PTC/NTC元件焊接、維護變壓器芯)；
 

　　2、DVD/數碼照相機(鏡頭、鏡頭黏貼、線路板加強)；
 

　　3、手機零部件(相機鏡頭、手機、麥克風、外殼、液晶顯示屏、觸摸顯示屏等)；
 

　　4、傳感器制造(氣體傳感器、uvled光電傳感器、光纖傳感器、光電編碼器等)；
 

　　5、UVled點光源硬盤磁頭安裝；
 

　　6、tft液晶屏液晶端口包裝；
 

　　7、tft-LCD液晶顯示板FPC黏貼包；
 

　　8、光學工業-st-ledUV光固化機運用，激光紫外光線固化運用；
 

　　9、光通訊產業源源設備(PLC分割，WDM,WDM包裝陣列，uvled如各種玻璃封裝結構的結合或密封，小部件，如固定不動)；
 

　　10、光學部件安裝(透鏡組、棱鏡、DLP光學發動機安裝、CCD、COMS)；
 

　　11、和機構——st.ledUV光固化機應，醫療設備的固化運用；
 

　　12、電容觸摸屏固化，PCB工業LEDVU光固化機運用研究。